https://prtimes.jp/data/corp/24930/logo/pc-5ef63e44572dbe234785d28ce7ed746f-e0bd0bf025216e10f4bb86f7bf7bec2c.jpeg
” alt=”” class=”css-1ias2o0″/>
賃貸レジデンス「ルフォンプログレ西大井プレミア」竣工
-
プレミアシリーズ4棟目となる135戸の大型賃貸レジデンス
-
Wi-Fi完備の屋上テラス、ビジネスラウンジ、大型ランドリー等、充実の共用施設(入居者専用)
-
顔認証・カードキーシステムによる非接触認証システムの導入
-
品川区との協定締結による災害対応の強化
-
LUUP導入・EV充電スタンドの設置による環境負荷低減への取り組み
ルフォンプログレ西大井プレミア(東京都品川区西大井1丁目9番19号/住宅135戸・店舗1区画、以下「本物件」という)は、JR湘南新宿ライン・横須賀線・相鉄線直通「西大井」駅徒歩3分、光学通り沿いに位置するアクセス至便な立地で、「大井町」駅へも徒歩圏内で生活利便施設が整ったエリアです。また、本物件1階にはドラッグストアが入居いたします。
● プレミアシリーズ4棟目となる135戸の大型賃貸レジデンス
ルフォンプログレのプレミアシリーズは、清澄白河、蔵前、神田に次ぐ4棟目となります。本物件は、1K~2LDK(25.13㎡〜43.30㎡)の全21タイプ、シングル向けからファミリータイプまで多様なプランを用意しました。上層階は「プレミアムフロア」を設定し、より上質な内装空間を提供いたします。
● Wi-Fi完備の屋上テラス、ビジネスラウンジ、大型ランドリー等、充実の共用施設(入居者専用)
多様なニーズに対応する「サードプレイス」として、モニター付き個別ブースを設置した無料のビジネスラウンジ(Wi-Fi、コンセント利用可)と、心地よい日陰を演出するパーゴラを設置した屋上テラス(Wi-Fi利用可)を設けました。仕事や開放的な空間でのリフレッシュ等、自由な過ごし方が可能です。また、建物内には入居者専用の大型ランドリー(Wi-Fi利用可)も設置しており、快適な住環境を提供いたします。
● 顔認証・カードキーシステムによる非接触認証システムの導入
エントランスは顔認証、住戸はカードキー(もしくはテンキー)による非接触認証システムを導入しています。スマホアプリから顔を登録するだけで、手ぶらで建物に入館できます。
● 品川区との協定締結による災害対応の強化
品川区と協定を締結し、重大な災害発生時に帰宅困難者の一時滞在施設として建物共用部の一部を使用可能としています。また、平常時から防災備蓄品を保管するための防災備蓄倉庫を提供しています。さらに、ルフォンプログレオリジナル災害用スタンド(BISTA)も設置し、入居者および地域住民にとって安心・安全な環境を提供しております。
● LUUP導入・EV充電スタンドの設置による環境負荷低減への取り組み
敷地内には、電動キックボードシェアリングサービスLUUPのポートに加え、入居者が使用可能なEV充電スタンドを設置。今後も、環境負荷の低いモビリティで脱炭素社会に寄与する開発を目指してまいります。
当社は今後もひとつひとつ丁寧な開発を行い、都市に暮らす人々の生活利便性や、働き方・暮らし方の多様性に応えるために、さまざまなスタイルの住居を提供することで、人々が安心して住み続けられる取り組み、社会貢献を意識した開発に取り組んでまいります。なお、本リリースの取り組みはSDGs(持続可能な開発目標)における4つの目標に貢献しております。
目標 3:エントランス開錠、メールボックス・宅配ボックス操作盤、エレベーターボタンを非接触化します。
目標 8:Wi-Fiが利用可能な入居者専用のビジネスラウンジを設け、
快適性や知的生産性の高い労務空間を提供します。
目標11: 街並みに調和した植栽・外構計画により、地域のまちづくりや景観の向上に寄与します。
目標13: 非常時に備え、ビジネスラウンジ内及びエレベーター内に非常用品を備蓄します。
物件概要
・物件名:ルフォンプログレ西大井プレミア
・所在地:東京都品川区西大井1丁目9番19号(住居表示)
・構造・規模:鉄筋コンクリート造・地上14階建
・総戸数:住宅135戸+店舗1区画
・敷地面積/延床面積:1,449.73㎡/5,998.29㎡
・専有面積/間取り:25.13㎡〜43.30㎡/1K・1DK・1LDK・2LDK
・設計:有限会社環境デザイン研究室
・施工:木内建設株式会社東京本店
・竣工:2024年1月22日
・アクセス:JR湘南新宿ライン・横須賀線・相鉄線直通「西大井」駅(東口)徒歩3分
JR京浜東北線・りんかい線「大井町」駅(西口)徒歩18分
・公式WEBサイト:https://lefond.jp/progres/nishi-oi/